レンチキュラーシートへの遮光パターンの形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996027682
Publication number (International publication number)：1997120102
Application date： Feb. 15, 1996
Publication date： May. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】レンチキュラーシートの平坦面に確実な位置精度で遮光パターン(ブラックストライプ)を形成する。【解決手段】レンチキュラーシートの平坦面に電離放射線硬化型樹脂層を形成し、光源とレンチキュラーシートとを、シリンドリカルレンズの並設方向に相対移動させながら、シリンドリカルレンズの長手方向に延びた帯状の光線(スリット光)を、シリンドリカルレンズ側からレンチキュラーシートの平坦面に対して垂直に照射して、各シリンドリカルレンズによって集光された部分の未硬化状態の前記樹脂を硬化させ、硬化した部分以外の前記樹脂表面(粘性の残る非集光部)を黒色に着色して、前記平坦面に遮光ストライプパターンを形成する。

Claim (excerpt)：

以下の工程を具備することを特徴とするレンチキュラーシートへの遮光パターンの形成方法。(a)片面にシリンドリカルレンズが並設され、他面が平坦面であるレンチキュラーシートの平坦面に電離放射線硬化型樹脂層を形成する工程。(b)光源とレンチキュラーシートとを、シリンドリカルレンズの並設方向に相対移動させながら、シリンドリカルレンズの長手方向に延びた帯状の光線を、シリンドリカルレンズ側からレンチキュラーシートの平坦面に対して垂直に照射して、各シリンドリカルレンズによって集光された部分の未硬化状態の前記樹脂を硬化させる工程。(c)硬化した部分以外の前記樹脂表面を黒色に着色して、前記平坦面に遮光ストライプパターンを形成する工程。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開昭59-121033
特開昭50-136028
特開昭58-057121

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