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J-GLOBAL ID：200903050969999148
位置合わせ方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992045413
Publication number (International publication number)：1993114545
Application date： Mar. 03, 1992
Publication date： May. 07, 1993
Summary：
【要約】【目的】 装置全体のスループットを低下させることなく、種々の変形を受けた半導体基板についても優れた位置合わせ精度を実現しうる位置合わせ方法を提供する。【構成】 被処理基板W上に形成された複数のショット領域Siから少なくとも3つのショット領域S1〜S8を選択し、この選択されたショット領域S1〜S8のアライメントマークMX、MYの位置を、基準座標系の座標位置として計測する。次いで、予め与えられた前記ショット領域Siの配列モデルに基づいて、配列座標の設定値から予想配列座標を算出し、さらに、予想配列座標と位置合わせ時の実際の配列座標との間に一義的な関係式が成立すると仮定し、この関係式から算出される配列座標と複数の実測値との平均的な誤差が最小となるように前記関係式のパラメータを決定する。そして、このパラメータと予想配列座標に基づいて前記複数のショット領域Siの各々の実際の配列座標を算出し、この実際の配列座標に応じてショット領域Siの位置合わせを行う。
Claim (excerpt)：
被処理基板上に予め設定された配列座標に沿って規則的に配列された複数のショット領域を、前記被処理基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して順次位置合わせする方法において、前記複数のショット領域から少なくとも3つのショット領域を特定ショット領域として選択する工程と、前記各特定ショット領域にそれぞれ付随した位置合わせ用のマークの位置を前記静止座標系上の座標位置として計測する工程と、第1の式で予め与えられた前記被処理基板上でのショット領域の配列モデルに基づいて、前記配列座標の設定値から予想配列座標を算出する工程と、該予想配列座標と位置合わせ時の実際の配列座標との間に第2の式による一義的な関係式が成立すると仮定し、前記計測されたマークの座標位置と前記関係式から算出される計算上の配列座標との平均的な誤差が最小となるように前記関係式のパラメータを決定する工程と、前記パラメータと前記予想配列座標とに基づいて前記被処理基板上の各ショット領域の実際の配列座標をそれぞれ算出する工程とを備え、該実際の配列座標に従って前記被処理基板の移動位置を制御することによって前記各ショット領域を前記基準位置に対してそれぞれ位置合わせすることを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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