Pat

J-GLOBAL ID：200903050994731621

表面処理基体

Inventor： 上山 健一
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 羽鳥 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994043608
Publication number (International publication number)：1995254169
Application date： Mar. 15, 1994
Publication date： Oct. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 導電化、及び低表面エネルギー化する処理が有効になされ、帯電に起因する汚れだけでなく、水溶性粘着物、油性粘着物、或いは高湿環境での液架橋力からの塵埃粒子の付着による汚れ等を防止することのできる表面処理基体及びそれを用いた光記録媒体を提供。【構成】 本発明は、基材(S)の表面或いは基材上に形成された有機保護膜(A)の表面に、該表面を撥水性及び撥油性の少なくとも一方の機能を有する機能基(H)及び反応基(R)を分子中に含む化合物で被覆して反応活性エネルギー線の照射により得られた被覆層(C)が形成されていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基材(S)の表面或いは基材上に形成された有機保護膜(A)の表面に、該表面を撥水性及び撥油性の少なくとも一方の機能を有する機能基(H)及び反応基(R)を分子中に含む化合物で被覆して反応活性エネルギー線の照射により得られた被覆層(C)が形成されていることを特徴とする光学材料用の表面処理基体。

IPC (2)：

G11B 7/24 537 ,  G11B 7/24