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J-GLOBAL ID：200903051009324096

超微細構造体およびその製造方法

Inventor： 田中 俊一郎 ,  許 並社
Applicant, Patent owner： 新技術事業団 ,  田中 俊一郎 ,  許 並社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996254150
Publication number (International publication number)：1998102243
Application date： Sep. 26, 1996
Publication date： Apr. 21, 1998
Summary：

【要約】【課題】 各種材料からなる超微粒子の形成位置等の制御を可能にすることによって、超微粒子を利用した超微細配線、超微細デバイス、超微細機能材料等を実現可能にする。【解決手段】 基板1上に所望形状に連続配置された、金属超微粒子、半導体超微粒子、化合物超微粒子等の各種材質からなる超微粒子6、さらには材質が異なる複数種の超微粒子からなる超微細構造体7である。超微細構造体7を構成する複数の超微粒子6は、基板1上に所望形状のスリット3を有するターゲット材2を配置し、このターゲット材2のスリット内壁4に対して高エネルギービーム5を斜め照射して、ターゲット材2の構成原子または構成分子を離脱させることにより形成したものであり、これら複数の超微粒子6を連続配置することで超微細構造体7が作製される。

Claim (excerpt)：

基板上に所望形状に連続配置された複数の超微粒子からなる超微細構造体であって、前記複数の超微粒子は、前記基板上に配置された前記超微粒子の配置形状に応じたスリットを有するターゲット材に、高エネルギービームを斜め照射して離脱させた前記ターゲット材の構成原子または構成分子からなることを特徴とする超微細構造体。

IPC (2)：

C23C 14/32 ,  H01L 21/203

FI (2)：

C23C 14/32 A ,  H01L 21/203 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 超微粒子およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-126642   Applicant：新技術事業団, 許並社, 田中俊一郎