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J-GLOBAL ID:200903051018231084

歪量子井戸型半導体レーザ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 敬四郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992060168
Publication number (International publication number):1993267784
Application date: Mar. 17, 1992
Publication date: Oct. 15, 1993
Summary:
【要約】【目的】 歪を含んだ量子井戸構造の活性層を有する歪量子井戸型半導体レーザに関し、HH帯とLH帯とを充分分離させて閾値電流密度を低下させた歪量子井戸型半導体レーザを提供することを目的とする。【構成】 井戸層と障壁層からなる量子井戸構造の活性層であって、井戸層の価電子帯頂上が障壁層価電子帯頂上より電子エネルギ的に高い位置にある材料の組み合わせからなる活性層を有するダブルヘテロ接合型の半導体レーザにおいて、当該量子井戸構造の井戸層および障壁層を共に基板結晶およびクラッド層より格子定数の大きな半導体結晶または小さな半導体結晶で形成し、以って当該量子井戸構造全体にヘテロ接合面方向の圧縮歪または引張り歪を付与したことを特徴とする。
Claim (excerpt):
井戸層と障壁層からなる量子井戸構造の活性層であって、井戸層の価電子帯頂上が障壁層価電子帯頂上より電子エネルギ的に高い位置にある材料の組み合わせからなる活性層を有するダブルヘテロ接合型の半導体レーザにおいて、当該量子井戸構造の井戸層および障壁層を共に基板結晶およびクラッド層より格子定数の大きな半導体結晶または小さな半導体結晶で形成し、以って当該量子井戸構造全体にヘテロ接合面方向の圧縮歪または引張り歪を付与したことを特徴とする歪量子井戸型半導体レーザ。
IPC (2):
H01S 3/18 ,  H01L 21/203

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