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J-GLOBAL ID：200903051018445750

静電吸着装置

Inventor： 島村 あずさ ,  橘内 浩之
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995001027
Publication number (International publication number)：1996191098
Application date： Jan. 09, 1995
Publication date： Jul. 23, 1996
Summary：

【要約】【構成】1は被保持物体、例えば半導体ウエハ、2は静電吸着装置を構成する誘電体、3は電極板、4はウエハから取られる導通部、5はウエハ1と電極板3との間に電位差を発生させる電源で、制御装置6により電圧の大きさ及びその印加のタイミングをコントロールする。【効果】静電吸着装置とウエハの吸着開始の際の、すべりによる異物の発生を低減させることにより、ウエハ裏面の異物汚染が防止される。

Claim (excerpt)：

電極板及び誘電体とを積層してなり、前記電極板と被保持物体間に電位差を生じさせることによって前記誘電体に前記被保持物体を吸着させる静電吸着装置において、必要とされる吸着力を生じさせる印加電圧よりも、小さな電圧を印加した状態で、前記被保持物体を接触させて吸着を開始し、その後、必要とされる吸着力が得られるまで印加電圧を上昇させて、前記被保持物体を吸着させることを特徴とする静電吸着装置。

IPC (6)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H02N 13/00 ,  B23Q 3/15