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J-GLOBAL ID：200903051020338015

二次元位置計測装置および計測方法

Inventor： 神谷 幸秀 ,  堀 洋一郎 ,  寺田 幸博 ,  木下 正生 ,  滝谷 俊夫 ,  岡田 敦子 ,  遠藤 英樹 ,  吉田 晴彦
Applicant, Patent owner： 神谷 幸秀 ,  堀 洋一郎 ,  日立造船株式会社
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995001597
Publication number (International publication number)：1996189810
Application date： Jan. 10, 1995
Publication date： Jul. 23, 1996
Summary：

【要約】【構成】 測定対象物2に設けられた測定用ターゲット3に光線を照射するとともに、その反射光をそれぞれCCDリニアセンサを有する第1および第2カメラ装置12,16 により受光し、この受光信号を演算処理装置7に入力して測定用ターゲット3までの距離および測定用ターゲット3の所定方向の寸法を演算し、これら距離および寸法に基づき、測定対象物2の二次元位置を求める方法である。【効果】 xおよびy方向の二方向においてそれぞれ変位計を設ける必要がなく、またCCDリニアセンサを使用しているので、信号処理が容易となり、さらに物体側に測定器の信号検出部を設置する必要がなく、したがって計測装置の設置場所に制限を受けることなく、しかも容易かつ迅速に測定対象物の二次元位置を測定することができる。

Claim (excerpt)：

測定対象物の二次元位置を計測する計測装置であって、測定対象物に設けられた測定用ターゲットと、この測定用ターゲットに光源からの光線を照射してその反射光を受光するためのCCDリニアセンサをそれぞれ有する第1および第2受光器と、これら両受光器からの受光信号を入力して、測定用ターゲットまでの距離およびこの距離を使用して測定用ターゲットの所定方向の寸法を演算するとともに、これらの演算値より測定用ターゲットの二次元位置を求める演算処理装置とから構成したことを特徴とする二次元位置計測装置。

IPC (2)：

G01B 11/00 ,  G01B 11/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 物体の位置測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-342973   Applicant：日立造船株式会社
• 特開平1-242392
  
• 3次元位置計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-353833   Applicant：大成建設株式会社