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J-GLOBAL ID：200903051071229628
シリカゾル及びシリカ粉末
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002232466
Publication number (International publication number)：2003104714
Application date： Apr. 14, 1992
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：
【要約】【目的】 Naの少ないシリカゾルを提供する。【構成】 珪酸ソーダ水溶液から得られた珪酸溶液にテトラエタノールアンモニウム水酸化物またはモノメチルトリエタノールアンモニウム水酸化物からなる第四級アンモニウム水酸化物を添加し、該第四級アンモニウム水酸化物をシリカゾル製造工程における粒子成長工程で使用し、粒子成長後のシリカゾルからイオン交換によって第四級アンモニウムイオンを除去して生成したシリカゾルであって、ゾル中のシリカ粒子の粒子径が10〜20Nmで、かつNa成分の含有量がSiO2に対しNa2Oとして0.011wt%以下であるシリカゾル。前記シリカゾルがアルミナ成分をSiO2に対しAl2O3として多くとも2wt%含有する。
Claim (excerpt)：
珪酸ソーダ水溶液から得られた珪酸溶液にテトラエタノールアンモニウム水酸化物またはモノメチルトリエタノールアンモニウム水酸化物を添加して生成したシリカゾルであって、ゾル中のシリカ粒子の粒子径が10〜20Nmで、かつNa成分の含有量がSiO2に対しNa2Oとして0.011wt%以下であることを特徴とするシリカゾル。
F-Term (20)：
4G072AA28
, 4G072AA36
, 4G072AA38
, 4G072BB05
, 4G072CC01
, 4G072EE01
, 4G072GG01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH18
, 4G072HH21
, 4G072KK15
, 4G072LL06
, 4G072PP01
, 4G072QQ05
, 4G072TT06
, 4G072TT19
, 4G072TT20
, 4G072UU01
, 4G072UU15
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