活性ガス生成方法、生成装置及び排ガス処理システム装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：野河信太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005217285
Publication number (International publication number)：2007029862
Application date： Jul. 27, 2005
Publication date： Feb. 08, 2007
Summary：

【課題】排ガス処理において十分な活性ガスを発生させるためには大型装置が必要であるが、本発明は、装置をコンパクトにし、且つ運転コストも低価にできる高効率のオゾンを1例とする活性ガス生成方法、生成装置及び排ガス処理システム装置を提供する。【解決手段】排ガス処理、表面処理、脱臭などに利用可能な活性ガスの生成方法において、原料のガスを、電極間にて放電を行うプラズマ反応器に導入して前記活性ガスを発生させ、該活性ガスの一部を、前記プラズマ反応器に導入し、循環して高濃度化する活性ガス生成方法及び生成装置並びにこれを用いた排ガス処理システム装置を使用する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

排ガス処理、表面処理、脱臭などに利用可能な活性ガスの生成方法において、原料のガスを、電極間にて放電を行うプラズマ反応器に導入して前記活性ガスを発生させ、該活性ガスの全部又は一部を、前記プラズマ反応器に導入し、循環して高濃度化することを特徴とする活性ガス生成方法。

IPC (6)：

B01D 53/56 , B01D 53/74 , B01J 19/08 , B01D 53/77 , A61L 9/22 , A61L 9/015

FI (5)：

B01D53/34 129C , B01J19/08 E , B01D53/34 130C , A61L9/22 , A61L9/015

F-Term (31)：

4C080AA03 , 4C080AA09 , 4C080BB02 , 4C080CC01 , 4C080HH02 , 4C080KK02 , 4C080MM08 , 4C080MM40 , 4D002AA12 , 4D002AC10 , 4D002BA02 , 4D002BA07 , 4D002CA01 , 4D002DA02 , 4D002DA13 , 4D002EA02 , 4G075AA03 , 4G075AA37 , 4G075BA05 , 4G075BA06 , 4G075BA08 , 4G075BB04 , 4G075BD13 , 4G075CA47 , 4G075CA62 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4G075EC25 , 4G075FB02 , 4G075FC15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

排気ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-227920 Applicant：日本碍子株式会社, 大久保雅章, 山本俊昭
窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-219909 Applicant：株式会社三電舎, 山本俊昭, 楊禎禄, 水野彰
窒素酸化物の浄化方法及び浄化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-226102 Applicant：株式会社三電舍, 山本俊昭, 楊禎禄, 水野彰

Cited by examiner (2)

高濃度オゾンガスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-363769 Applicant：株式会社山広
特開平3-028108

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