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J-GLOBAL ID:200903051114827583

コーティング用組成物及びコーティング方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青木 朗 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992039595
Publication number (International publication number):1993238827
Application date: Feb. 26, 1992
Publication date: Sep. 17, 1993
Summary:
【要約】【目的】 低温(150〜300°C)焼成により、耐熱性、耐摩耗性、耐食性に優れ、クラックのない緻密な塗膜を与えるコーティング用組成物と、その施工法を提供すること、特に、低温焼成という特長により電子部品、プラスチック等へのコーティングを可能とすること。【構成】 数平均分子量100〜5万のポリシラザンとケイ素アルコキシドを加熱反応して得られるアルコキシド由来ケイ素/ポリシラザン由来ケイ素の原子比が0.001〜3の範囲内かつ数平均分子量が約200〜500万のケイ素アルコキシド付加ポリシラザンを含有するコーティング用組成物。この組成物を基板に塗布後、150〜300°Cで焼成すると耐熱性、耐摩耗性、耐食性に優れたSi-N-O系又はSi-N-O-C系のセラミックス膜が得られる。
Claim (excerpt):
主として一般式(I):【化1】(但し、R1 ,R2 ,R3 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基を表わす。ただし、R1 ,R2 ,R3 のうち少なくとも1つは水素原子である。)で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量が100〜5万のポリシラザンと、一般式(II): Si(OR4)4 (II)(式中、R4 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基またはアリール基を表わし、少なくとも1個のR4 は上記アルキル基またはアリール基である。)で表わされるケイ素アルコキシドを加熱反応させて得られる、アルコキシド由来ケイ素/ポリシラザン由来ケイ素原子比が0.001〜3の範囲内かつ数平均分子量が約200〜50万のケイ素アルコキシド付加ポリシラザンを少なくとも含有するコーティング用組成物。
IPC (5):
C04B 35/58 101 ,  B05D 3/02 ,  B05D 7/24 302 ,  C04B 41/83 ,  C09D183/14 JGF
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭60-030198

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