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J-GLOBAL ID:200903051130026817
高周波プラズマによる化合物分解装置、化合物分解方法及び化合物分解システム
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
三好 秀和 (外7名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000050199
Publication number (International publication number):2001232180
Application date: Feb. 25, 2000
Publication date: Aug. 28, 2001
Summary:
【要約】【課題】 低電力で安定したプラズマ維持を可能にし、様々の処理対象物の分解処理を可能にした高周波プラズマによる化合物分解装置、化合物分解方法及び化合物分解システムを提供する。【解決手段】 放電管2の外周に巻回された高周波コイル5に励磁電流を流して放電管2内部に誘導プラズマを発生させ、放電管2内に導入された処理対象物を分解処理する高周波プラズマによる化合物分解装置において、前記処理対象物、放電補助剤を整流して放電管2内部に導入する整流手段(間隙部100)を設けたことを特徴とする。
Claim (excerpt):
放電管の外周に巻回された高周波コイルに励磁電流を流して放電管内部に誘導プラズマを発生させ、放電管内に導入された処理対象物を分解処理する高周波プラズマによる化合物分解装置において、前記処理対象物又は放電補助剤又はこれらの混合物を整流して放電管内部に導入する整流手段を設けたことを特徴とする高周波プラズマによる化合物分解装置。
IPC (3):
B01J 19/08
, A62D 3/00 ZAB
, H05H 1/46
FI (3):
B01J 19/08 E
, A62D 3/00 ZAB
, H05H 1/46 L
F-Term (22):
2E191BA13
, 2E191BA15
, 2E191BD18
, 4G075AA03
, 4G075AA13
, 4G075BA05
, 4G075BD08
, 4G075BD12
, 4G075BD13
, 4G075CA02
, 4G075CA03
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EA01
, 4G075EA07
, 4G075EB41
, 4G075FB04
, 4G075FB06
, 4G075FC06
, 4G075FC09
, 4G075FC15
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