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J-GLOBAL ID：200903051166080591

質量分析用マトリックス化合物、質量分析用基板及び質量分析装置

Inventor：
吉村 公博

About 吉村 公博


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (3)： 山下 穣平 ,  志村 博 ,  永井 道雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006161061
Publication number (International publication number)：2007327910
Application date： Jun. 09, 2006
Publication date： Dec. 20, 2007
Summary：
【課題】脱離/イオン化による高分子量化合物の検出を高感度に行うと共に、実質的に低分子領域の解析に支障がでないようにフラグメンテーションを極力避けることを可能にする質量分析用マトリックス化合物、質量分析用基板及び該マトリックス化合物を用いた質量分析装置を提供することである。【解決手段】質量分析用マトリックス化合物において、照射レーザー光により質量数が160未満の化合物に分解された主たる分解生成物により測定対象分子を脱離・イオン化せしめる質量分析用マトリックス化合物及び該マトリックス化合物を用いた質量分析装置、 あるいは、金属若しくは半導体基板の表面にミクロポーラス膜又はメソポーラス膜を設け、更に、そのミクロ孔内又はメソ孔内にマトリックス化合物を担持させ、照射レーザー光により質量数が160未満の化合物のみを細孔外に選択的に発生させる質量分析用基板。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
質量分析用マトリックス化合物において、照射レーザー光により質量数が160未満の化合物に分解された主たる分解生成物により測定対象分子を脱離・イオン化せしめることを特徴とする質量分析用マトリックス化合物。
IPC (1)：
G01N 27/62
FI (1)：
G01N27/62 Z
F-Term (8)：
2G041CA01 ,  2G041DA04 ,  2G041DA05 ,  2G041DA09 ,  2G041DA20 ,  2G041GA06 ,  2G041JA02 ,  2G041JA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (2)

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