Pat
J-GLOBAL ID：200903051187075113

研磨用組成物

Inventor：
大脇 寿樹

About 大脇 寿樹


Applicant, Patent owner：
株式会社フジミインコーポレーテッド

About 株式会社フジミインコーポレーテッド


Agent (1)： 佐々木 宗治 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994012878
Publication number (International publication number)：1995216345
Application date： Feb. 04, 1994
Publication date： Aug. 15, 1995
Summary：
【要約】【目的】 高品質の研磨面を研磨能率を維持しながら作業性が良好で加工コストの低減を可能とする研磨用組成物を提供する。【構成】 水とアルミナ質研磨材及びモリブデン酸塩と有機酸とからなる研磨促進剤さらにはアルミナゾルからなるメモリーハードディスクの研磨用組成物である。そして前記モリブデン酸塩がモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸リチウム、モリブデン酸ナトリウム及びモリブデン酸カリウムから選ばれた1種または2種以上であり、また前記有機酸がグリコール酸、リンゴ酸、酒石酸、グリセリン酸、乳酸、クエン酸、マンデル酸、マロン酸、アスコルビン酸、グルタミン酸、グリオキシル酸、グリシン、及びグルコン酸から選ばれた1種または2種以上であり、さらに、研磨促進剤の合計含有量が0.01〜10重量%で、またアルミナゾルの含有量が0.1〜5重量%で、アルミナ質研磨材の含有量が2〜25重量%で、研磨材の平均粒子径が0.3〜10μmである研磨用組成物である。
Claim (excerpt)：
水とアルミナ質研磨材及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤がモリブデン酸塩と有機酸とからなることを特徴とする研磨用組成物。
IPC (4)：
C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24D 3/00 ,  G11B 5/84
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM