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J-GLOBAL ID：200903051226515649

真空蒸着装置

Inventor： 菊池 和夫 ,  税所 慎一郎 ,  長家 幸子
Applicant, Patent owner： 株式会社シンクロン
Agent (1)： 臼村 文男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995051964
Publication number (International publication number)：1996225940
Application date： Feb. 16, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【構成】 駆動ロール45により連続フィルム状基板31を蒸着室13内の蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送し、連続フィルム状基板に薄膜を形成して連続的に蒸発室外に回収する真空蒸着装置において、蒸着ゾーンの終点に至る以前の位置において、連続フィルム状基板に堆積した薄膜の膜厚を測定する膜厚測定手段51,53,71,73を具え、この測定値から最終的に形成される薄膜の膜厚を制御する真空蒸着装置。連続フィルム状基板と駆動ロールとが接していない部位を有し、この部位で膜厚測定手段が薄膜の膜厚を測定する。【効果】 連続フィルム状基板に対して連続的に薄膜を形成するに際し、設定値からの膜厚の変動を迅速に検知し、敏速にフィードバック制御することができる。

Claim (excerpt)：

駆動ロールにより連続フィルム状基板を蒸着室内の蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送し、連続フィルム状基板に薄膜を形成して連続的に蒸発室外に回収する真空蒸着装置において、蒸着ゾーンの終点に至る以前の位置において、連続フィルム状基板に堆積した薄膜の膜厚を測定する膜厚測定手段を具え、この測定値から最終的に形成される薄膜の膜厚を制御することを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (2)：

C23C 14/56 ,  C23C 14/54

FI (2)：

C23C 14/56 A ,  C23C 14/54 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 蒸着膜厚の制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-090460   Applicant：三菱重工業株式会社