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J-GLOBAL ID：200903051229161449

原盤露光装置

Inventor： 杉山 寿紀 ,  吉弘 昌史 ,  今井 奨 ,  石崎 修 ,  島崎 勝輔
Applicant, Patent owner： 日立マクセル株式会社
Agent (1)： 川北 喜十郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997323745
Publication number (International publication number)：1998188333
Application date： Nov. 10, 1997
Publication date： Jul. 21, 1998
Summary：

【要約】【課題】 情報ピットの微小化および狭トラックピッチ化に対応した狭溝化を実現することができる原盤露光装置を提供する。【解決手段】 原盤露光装置はフォトレジスト20を塗布した原盤19にレーザ光4集光する光学素子としてNA>1を満たす固体イマージョンレンズ17を用いる。固体イマージョンレンズ17とフォトレジスト20との間隔をエバネッセント光の減衰距離内に維持するために静圧エアスライダ16aを用いる。制御された流量のエアは管30を通じて静圧エアスライダ16aのエア吹出口30から吹き出される。エアスライダ16aはホルダ32によりベース28のシリンダ部28a内にエアベアリング機構を介して支持されている。

Claim (excerpt)：

フォトレジストを塗布した記録媒体製造用原盤にレーザ光を集光して照射することによりフォトレジストを所望のパターンに感光する原盤露光装置において、上記レーザ光を集光するための光学素子としてNA>1を満たす固体イマージョンレンズを用い、上記固体イマージョンレンズと上記フォトレジストを塗布した原盤の距離をエバネッセント光の減衰距離内の一定の距離に保つ手段を備えることを特徴とする原盤露光装置。