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J-GLOBAL ID：200903051273109810

面形状測定方法および測定装置

Inventor： 市川 元
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992113383
Publication number (International publication number)：1993312537
Application date： May. 06, 1992
Publication date： Nov. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 少ない測定回数で被検平面の面形状を高精度に測定する。【構成】 フィゾー干渉計の参照面1aによる測定光3の結像点Pの後の光束中に被検平面4aを配置する。そして、略中心に測定光が通過するための開口2bを有する補助球面2aの球心と結像点の被検平面に対する共役点Qとをほぼ一致させて前記干渉計により被検平面の面形状を測定する。次に、結像点近傍に平面鏡5を配して測定光を偏向させこの偏向後の光束中に補助球面の球心と結像点とをほぼ一致させて前記干渉計により補助球面の面形状を測定する。そして、第1、第2の状態での測定結果を演算処理して前記被検平面の面形状を算出する。

Claim (excerpt)：

フィゾー干渉計の参照面から出射した測定光が一旦結像した後の光束中に被検平面を配置すると共に、略中心に前記測定光が通過するための開口を有する補助球面を、「補助球面の球心」と「測定光の結像点の前記被検平面に対する共役点」とがほぼ一致するように配置して第1の状態とし、該第1の状態で前記フィゾー干渉計により前記被検平面の面形状を測定すること、前記測定光の結像点近傍に平面鏡を配置して該測定光を偏向し、この偏向後の測定光の光束中に前記球面鏡を「補助球面の球心」と「結像点」とがほぼ一致するよう配置して第2の状態とし、該第2の状態で前記フィゾー干渉計により前記補助球面の面形状を測定すること、前記第1の状態および第2の状態で測定された結果を演算処理して前記被検平面の面形状を算出すること、からなる面形状測定方法。