i線用ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992031340
Publication number (International publication number)：1993088364
Application date： Jan. 23, 1992
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】解像度を損なうことなく、高感度を実現し、且つ、耐熱性、残膜性、現像性、パターン形状などに優れたポジ型レジストとして好適なi線用ポジ型レジスト組成物およびそれを用いてレジストパターンを形成する方法を提供する。【構成】(A)2,3-キシレノール5〜95モル%および2,3-キシレノール以外のモノ-、ジ-又はトリ-メチルフェノール類95〜5モル%からなるかあるいは3,4-キシレノール5〜50モル%および3,4-キシレノール以外のモノ-、ジ-又はトリ-メチルフェノール類95〜50モル%からなるフェノール性混合物を、アルデヒド類と重縮合して得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂および1,2-キノンジアジド化合物を含有して成り、そして(B)i線感応性を有する、i線用ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

(A)2,3-キシレノール5〜95モル%および下記式(1)【化1】で表わされるフェノール類95〜5モル%からなるフェノール性混合物を、アルデヒド類と重縮合して得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂および1,2-キノンジアジド化合物を含有して成り、そして(B)i線感応性を有する、ことを特徴とするi線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/023 511 , C08L 61/06 LNF , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開昭60-176034
特開平2-108054
特開平2-222954

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