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J-GLOBAL ID:200903051292875680

プラズマ装置のクリーニング方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井内 龍二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993067801
Publication number (International publication number):1994283484
Application date: Mar. 26, 1993
Publication date: Oct. 07, 1994
Summary:
【要約】【構成】 反応容器10内にハロゲン系ガスを導入して0.3Torr以上10Torr以下の圧力領域においてプラズマを発生させ、反応容器10内に付着した反応生成物31を除去するプラズマ装置のクリーニング方法。【効果】 ハロゲンのイオン及びラジカルを発生させて反応容器10内に付着した反応生成物31を分解させることができ、反応生成物31を効率良く除去することができる。また、範囲内の圧力下でプラズマを発生させることにより、プラズマ装置を短時間でクリーニングすることができる。したがって、プラズマ装置のメンテナンス時間を大幅に短縮することができる。
Claim (excerpt):
反応容器内にハロゲン系ガスを導入して0.3Torr以上10Torr以下の圧力領域においてプラズマを発生させ、前記反応容器内に付着した反応生成物を除去することを特徴とするプラズマ装置のクリーニング方法。
IPC (2):
H01L 21/302 ,  H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-253330
  • 特表平3-502347

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