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J-GLOBAL ID：200903051319313183

汚染水の処理方法とその装置

Inventor： 見目 善弘 ,  高山 誠司
Applicant, Patent owner： 日本電気環境エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 菅野 中
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994037202
Publication number (International publication number)：1995241557
Application date： Mar. 08, 1994
Publication date： Sep. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 有機化合物で汚染された水を再生する。【構成】 有機化合物、殊に有機塩素化合物に汚染された水中に酸化剤を添加して殺菌し、水中の浮遊物を除去した後、紫外線を照射して有機物を酸化分解し、さらに揮発性の有機物は水中から分離除去し、最後に被処理水中に残存する酸化物を還元する。酸化剤は、殺菌処理時と、有機物の酸化分解時とに分割してそれぞれ被処理水中に添加することによって、有機化合物の分解効率を高める。

Claim (excerpt)：

殺菌処理と、浮遊物除去処理と、分解処理と、残存酸化剤除去処理とを有し、被処理液中に酸化剤を添加し、被処理液中に含まれた有機化合物を酸化分解して被処理液中から除去する有機化合物の分解処理方法であって、殺菌処理は、被処理液中のバクテリヤその他の菌を殺菌する処理であり、浮遊物除去処理は、浮遊物を被処理液中から分離除去する処理であり、分解処理は、被処理液中に紫外線を照射して被処理液中に含まれた有機化合物を酸化分解する処理であり、残存酸化剤除去処理は、被処理液中に残留する酸化剤を還元剤,活性炭あるいは触媒樹脂等を用いて被処理液から除去する処理であり、酸化剤を少なくとも殺菌処理並びに分解処理する被処理液中にそれぞれ添加することを特徴とする汚染水の処理方法。

IPC (18)：

C02F 1/32 ,  B01D 53/70 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/72 ZAB ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 504