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J-GLOBAL ID:200903051320024063

光導波路及び集光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993290519
Publication number (International publication number):1995141688
Application date: Nov. 19, 1993
Publication date: Jun. 02, 1995
Summary:
【要約】【目的】 導波光が効率的に全方位に励起され、放射光の振幅や偏光方向が方位に依らず均一で、集光スポットを円形に絞ることの可能な光導波路及び集光装置を提供することを目的する。【構成】 1は透明基板、2は位相補正層、3はバッファー層、4は導波層、5、6は導波層上に形成された同心円状凹凸構造によるグレーティングカプラであり、共に導波層4に直交する軸Lを中心軸にする。位相補正層2の存在によりTEモードの等価屈折率とTMモードの等価屈折率が等しくなるので、グレーティングカプラ5に入射する光7は効率的に導波光8を励起する。中心から外周に向かって伝搬する導波光8はグレーティングカプラ6より放射されるが、TE、TMの等価屈折率が等しいことから、放射光の振幅や偏光方向が方位に依らず均一になり、集光点には円形の集光スポットが得られる。
Claim (excerpt):
レーザー光源と、透明層で形成された導波層と、前記レーザー光源から出射するレーザー光を前記導波層内に導き導波層内を伝搬する導波光を励起する入力手段とからなり、前記導波層はこれよりも低屈折率の第1の透明層を挟んで前記導波層よりも高屈折率の第2の透明層の上に積層され、前記導波層内を伝搬するTMモード導波光の等価屈折率をTEモード導波光の等価屈折率と等しくすることを特徴とする光導波路。
IPC (3):
G11B 7/135 ,  G02B 6/122 ,  G02B 6/30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平1-320652

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