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J-GLOBAL ID：200903051324873090

化学増幅された放射線感受性組成物

Inventor： ケンジ・ホンダ
Applicant, Patent owner： オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995210310
Publication number (International publication number)：1996062843
Application date： Aug. 18, 1995
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジスト組成物として有用な化学増幅された放射線感受性組成物の提供。【解決手段】 この放射線感受性組成物は、(a)(i) 式〔1〕又は〔2〕:【化1】を有するヒドロキシスチレン部分(式中xは2〜300の整数である)の、(ii) 式〔3〕:【化2】を有するモノメチロール化フェノール系化合物(式中R1及びR2は、1〜4の炭素原子を有する低級アルキル基、1〜4の炭素原子を有する低級アルコキシ基、アミノ基及びカルボン酸基よりなる群から個々に選択される;R3及びR4は、水素、1〜4の炭素原子を有する低級アルキル基、1〜4の炭素原子を有する低級アルコキシ基、アミノ基及びカルボキシル基よりなる群から個々に選択される;そしてヒドロキシスチレン部分対モノメチロール化フェノール系化合物のモル比は約1:10〜約10:1である)との縮合反応よってつくられるアルカリ可溶性バインダー樹脂(b) 酸開裂性基を有する少なくとも1種のアルカリ性溶出阻止剤;そして(c) 照射下に酸性部分を形成する少なくとも1種の化合物からなる。

Claim (excerpt)：

(a) (i) 式〔1〕又は〔2〕:【化1】を有するヒドロキシスチレン部分(式中xは2〜300の整数である)の、(ii) 式〔3〕:【化2】を有するモノメチロール化フェノール系化合物(式中R1及びR2は、1〜4の炭素原子を有する低級アルキル基、1〜4の炭素原子を有する低級アルコキシ基、アミノ基及びカルボン酸基よりなる群から個々に選択される;R3及びR4は、水素、1〜4の炭素原子を有する低級アルキル基、1〜4の炭素原子を有する低級アルコキシ基、アミノ基及びカルボキシル基よりなる群から個々に選択される;そしてヒドロキシスチレン部分対モノメチロール化フェノール系化合物のモル比は約1:10〜約10:1である)との縮合反応よってつくられるアルカリ可溶性バインダー樹脂;(b) 酸開裂性基を有する少なくとも1種のアルカリ性溶出阻止剤;および(c) 照射下に酸性部分を形成する少なくとも1種の化合物よりなる化学増幅された放射線感受性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027