分子ふるいSSZ-74組成物及びその合成

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：浅村皓 , 浅村肇 , 池田幸弘 , 長沼暉夫
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008548659
Publication number (International publication number)：2009528968
Application date： Dec. 21, 2006
Publication date： Aug. 13, 2009
Summary：

本発明は、構造方向指向剤としてヘキサメチレン-1,6-ビス-(N-メチル-N-ピロリジニウム)二陽イオンを使用して調製された新しい結晶性分子ふるいSSZ-74に関し、SSZ-74を合成する方法に関し、そして炭化水素転換反応、ガス流中の窒素の酸化物の還元、部分酸化反応、アシル化反応、含酸素化合物転換、ガス分離、アミン類の合成、エンジン排気の処理(常温始動放出の減少)及びベックマン転位においてのそのSSZ-74の使用に関する。

Claim (excerpt)：

(1)第1の四価元素の酸化物の、(2)三価元素、五価元素、前記第1の四価元素とは異なる第2の四価元素の酸化物又はそれらの混合物に対する約15より大きいモル比を有し、そしてカ焼後に表IIのX線回折線を有する、結晶性分子ふるい。

IPC (14)：

C01B 39/48 , B01D 53/28 , B01J 20/18 , B01J 20/10 , B01J 29/72 , C10G 47/16 , C10G 45/64 , C10G 45/62 , C10G 35/095 , C10G 35/09 , C10G 50/00 , C10G 3/00 , F01N 3/08 , F01N 3/10

FI (15)：

C01B39/48 , B01D53/28 , B01J20/18 C , B01J20/10 D , B01J29/72 Z , C10G47/16 , C10G45/64 , C10G45/62 , C10G35/095 , C10G35/09 , C10G50/00 , C10G3/00 B , F01N3/08 A , F01N3/10 A , B01J29/72 A

F-Term (142)：

3G091AA17 , 3G091AA18 , 3G091AB02 , 3G091AB10 , 3G091BA15 , 3G091FA01 , 3G091GB05W , 3G091GB06W , 3G091GB07W , 4D052HA03 , 4G066AA19A , 4G066AA20A , 4G066AA22A , 4G066AA23A , 4G066AA27A , 4G066AA61B , 4G066AB12D , 4G066CA43 , 4G066CA51 , 4G066DA01 , 4G066EA09 , 4G066FA22 , 4G066FA37 , 4G073BA20 , 4G073BA36 , 4G073BA56 , 4G073BA57 , 4G073BA58 , 4G073BA59 , 4G073BA63 , 4G073BB03 , 4G073BB24 , 4G073BB44 , 4G073CZ05 , 4G073CZ41 , 4G073FB01 , 4G073FB02 , 4G073FC18 , 4G073FD01 , 4G073FD10 , 4G073FD13 , 4G073FD15 , 4G073FD20 , 4G073FD23 , 4G073GA01 , 4G073GA03 , 4G073GB02 , 4G073UA01 , 4G073UA06 , 4G169AA01 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169AA09 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BA02A , 4G169BA02B , 4G169BA04A , 4G169BA07B , 4G169BA27A , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BC01A , 4G169BC08A , 4G169BC16A , 4G169BC16B , 4G169BC17A , 4G169BC18A , 4G169BC31A , 4G169BC35A , 4G169BC42A , 4G169BC44A , 4G169BC48A , 4G169BC50A , 4G169BC54A , 4G169BC58A , 4G169BC59A , 4G169BC60A , 4G169BC62A , 4G169BC64A , 4G169BC65A , 4G169BC66A , 4G169BC67A , 4G169BC68A , 4G169BC69A , 4G169BC70A , 4G169BC71A , 4G169BC72A , 4G169BC75A , 4G169BD03A , 4G169BD05A , 4G169BD05B , 4G169CA02 , 4G169CA03 , 4G169CA07 , 4G169CA08 , 4G169CA13 , 4G169CA15 , 4G169CB02 , 4G169CB07 , 4G169CB42 , 4G169CB46 , 4G169CB47 , 4G169CB62 , 4G169CB66 , 4G169CB73 , 4G169CC04 , 4G169CC05 , 4G169CC06 , 4G169CC07 , 4G169CC11 , 4G169CC14 , 4G169EA02Y , 4G169FB30 , 4G169FC04 , 4G169FC08 , 4G169ZA04B , 4G169ZA33A , 4G169ZA37A , 4G169ZA40A , 4G169ZB04 , 4G169ZC02 , 4G169ZC03 , 4G169ZC04 , 4G169ZC05 , 4G169ZD08 , 4H006AA02 , 4H006AB84 , 4H006AC14 , 4H006BA25 , 4H006BA26 , 4H006BA55 , 4H006BA61 , 4H006BA62 , 4H006BA81 , 4H006BC32 , 4H006BE20 , 4H029CA00 , 4H029DA00 , 4H039CA10 , 4H039CB10 , 4H039CJ10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特公昭58-001045
ゼオライトSSZ-50
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-545203 Applicant：シェブロンユー.エス.エー.インコーポレイテッド

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