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J-GLOBAL ID：200903051389871396

有機ケイ素高分子およびその製造方法

Inventor： 三塚 雅彦 ,  伊藤 正義 ,  内海 哲良 ,  岩田 健二 ,  小林 峰生
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993043596
Publication number (International publication number)：1993345825
Application date： Mar. 04, 1993
Publication date： Dec. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 新規な触媒による有機ケイ素高分子およびその製造方法を提供する。【構成】 塩基性金属酸化物の存在下で、フェニルシラン(C6H5SiH3)とm-ジエチニルベンゼン(HC≡C-C6H4-C≡CH)とを反応させることにより製造した構造式(1)(上式中、xおよびyは繰り返し単位の組成比を示し0.5>y>0.001、x+y=1なる関係を満たす。)で表される有機ケイ素高分子およびその製造方法。

Claim (excerpt)：

塩基性金属酸化物の存在下で、フェニルシラン(C6H5SiH3)とm-ジエチニルベンゼン(HC≡C-C6H4-C≡CH)とを反応させることを特徴とする有機ケイ素高分子の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平3-216138