Pat

J-GLOBAL ID：200903051451103767

プラズマ処理装置

Inventor： 笹村 義孝 ,  藤田 穣太
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 川瀬 茂樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994224064
Publication number (International publication number)：1996064393
Application date： Aug. 24, 1994
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：

【要約】【目的】n個の上部電極に、位相角が360度/n(但しnは3以上)異なる高周波電力を与えて振動する電界を形成しプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、プラズマ強度の空間的な偏りをなくし、均一性の高い処理を行なうこと。【構成】 上部電極毎に、インピーダンス、電力、電流を測定する機構を設ける。これにより、プラズマの空間的な偏りを知る。上部電極毎に、供給する電力と、位相角を変更して、プラズマの形状を整形する。均一性の高い処理を行なうことができる。

Claim (excerpt)：

真空に引くことのできる真空チャンバと、真空チャンバの内部下方に設けた下部電極と、真空チャンバの内部上方に設けた3以上のn個の上部電極とを含み、下部電極の上に試料を乗せて、下部電極には高周波電力を印加し、上部電極には同一周波数で位相角が2π/nだけ異なる電圧を印加することによりプラズマを発生させ被処理物をプラズマによって処理するようにしたプラズマ処理装置において、各上部電極から見たプラズマのインピーダンス、各上部電極からプラズマに流れ込む電流、各上部電極に与えられる電力を監視し、これらの値よりプラズマの空間的な揺らぎを求め、上部電極間の位相差と、上部電極に与える電力を調整するようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31