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J-GLOBAL ID：200903051464197450

皮膚外用剤

Inventor： 田村 辰仙 ,  長谷部 恵子 ,  松本 千賀子
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998107510
Publication number (International publication number)：1999302198
Application date： Apr. 17, 1998
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：

【要約】【解決手段】 次の成分(A)及び(B):(A)ベンダザック、インドメタシン、ブフェキサマック、ウフェナマート等から選ばれる1種又は2種以上、(B)次の一般式(1)で表されるアミド誘導体【化1】(式中、R1 及びR2 はOH基で置換されていてもよいC9〜39の炭化水素基を示し、R3 及びR4 は水素原子、リン酸塩残基等を示す)を含有する皮膚外用剤。【効果】 薬効の持続性と保湿効果に優れ、低刺激で肌荒れ改善効果が高く、使用感が良好である。

Claim (excerpt)：

次の成分(A)及び(B):(A)ベンダザック、インドメタシン、ブフェキサマック、ウフェナマート、イブプロフェンピコノール、スプロフェン、フルフェナム酸ブチル、ビタミンA油、ジフェンヒドラミン、塩酸ジフェンヒドラミン、マレイン酸クロルフェニラミン、塩酸イソチペンジル、ジフェニルイミダゾール、硫酸クレミゾール、クロタミトン、グリチルレチン酸、グリチルリチン酸二カリウム、サリチル酸メチル、サリチル酸グリコール、アラントイン、グアイアズレン、ジクロフェナクナトリウム、イブプロフェン、ザルトプロフェン、ナプロキセン、フルルビプロフェン、フェンブフェン、メフェナム酸、ピロキシカム、アンピロキシカム、リシプフェン、テノキシカム、フェルビナク及びオルセノンから選ばれる1種又は2種以上、(B)次の一般式(1)で表されるアミド誘導体【化1】(式中、R1 及びR2 は同一又は異なって、1又は2以上のヒドロキシル基で置換されていてもよい炭素数9〜39の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、R3 及びR4 は同一又は異なって、水素原子、リン酸塩残基、硫酸塩残基又は糖残基を示す)を含有することを特徴とする皮膚外用剤。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-035063   Applicant：花王株式会社