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J-GLOBAL ID：200903051466089205

光導波路素子の製造方法

Inventor： 山田 高幸 ,  若林 公宏
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 平田 忠雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997010906
Publication number (International publication number)：1998206667
Application date： Jan. 24, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ミラーの平面精度の向上を図り、再現性および量産性に優れる光導波路素子の製造方法を提供する。【解決手段】 基板2上に光導波路コア材3を成膜し、光導波路3A、ミラー5Aが配置される空隙3B、およびミラー5Aを支持する支持領域3Cを形成し、空隙3Bを犠牲層4で平坦に埋設し、犠牲層4の表面4aにミラー層5を形成するとともに、支持領域3Cの表面に支持層6を形成し、ミラー層5の一部と支持層6とを可撓性薄膜7によって連結し、犠牲層4を除去してその除去後の空隙3Bにミラー層5を斜めに倒してミラー5Aを形成する。平坦な犠牲層4の表面4aにミラー層5を形成することで、平面精度の高い反射面5aが得られる。犠牲層4を除去することで、ミラー層5が斜めに倒れてミラー5Aとなるので、再現性および量産性の向上を図ることができる。

Claim (excerpt)：

基板上に形成された光導波路の端部に導波光を反射するミラーを備えた光導波路素子の製造方法において、前記基板上に光導波路コア材を形成し、前記光導波路コア材の前記ミラーが配置される領域に空隙を形成して前記光導波路コア材における光伝播方向の一方を前記光導波路とし、他方を前記ミラーを支持する支持領域とし、前記空隙に犠牲層を平坦に埋設し、前記犠牲層の表面に前記ミラーとなるミラー層を形成し、前記ミラー層の一部と前記支持領域とを可撓性薄膜によって連結し、前記犠牲層を除去してその除去後の前記空隙に前記ミラー層を斜めに倒して前記ミラーを形成することを特徴とする光導波路素子の製造方法。