Pat

J-GLOBAL ID：200903051486192363

ガスハイドレートの製造装置および製法

Inventor： 永森 茂 ,  小野 純二 ,  永田 健一
Applicant, Patent owner： 三井造船株式会社
Agent (1)： 川北 武長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999118501
Publication number (International publication number)：2000302701
Application date： Apr. 26, 1999
Publication date： Oct. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】 水と天然ガスのようなメタンを主成分とするガスからメタンハイドレートを工業的に連続して製造することができる装置および製法を提供することにある。【解決手段】 冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容器内に水または不凍液を供給する手段と、該筒状容器の中央部に挿入されたガス導入管と、該ガス導入管の中心軸に挿入された回転軸と、該回転軸の駆動手段と、該回転軸の下端に設けられたプロペラ型攪拌翼と、前記ガス導入管の下端に前記攪拌翼の端部を囲むように設けられたガス分散部と、前記ガス導入管にメタンを主成分とするガスを導入する手段と、前記筒状容器内で生成したメタンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造装置。

Claim (excerpt)：

冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容器内に水または不凍液を供給する手段と、該筒状容器の中央部に挿入されたガス導入管と、該ガス導入管の中心軸に挿入された回転軸と、該回転軸の駆動手段と、該回転軸の下端に設けられたプロペラ型撹拌翼と、前記ガス導入管の下端に前記撹拌翼の端部を囲むように設けられたガス分散部と、前記ガス導入管にメタンを主成分とするガスを導入する手段と、前記筒状容器内で生成したメタンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造装置。

IPC (3)：

C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04

FI (3)：

C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04

F-Term (5)：

4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC90 ,  4H006AD33 ,  4H006AD40