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J-GLOBAL ID:200903051508631650

排気ガス浄化用触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993320041
Publication number (International publication number):1995171392
Application date: Dec. 20, 1993
Publication date: Jul. 11, 1995
Summary:
【要約】【目的】触媒成分としてパラジウムのみを用いた三元触媒において、パラジウムのシンタリングを防止することにより、初期はもちろん耐久後にもCO,HC及びNOxを安定して浄化できるようにする。【構成】モノリス担体と、モノリス担体に被覆形成されパラジウム、アルカリ土類金属、セリウム酸化物及びジルコニウム酸化物よりなる触媒活性成分と活性アルミナから形成された触媒担持層と、からなる排気ガス浄化用触媒において、パラジウム及びアルカリ土類金属は触媒担持層の表面に高密度担持されていることを特徴とする。パラジウムはアルカリ土類金属と密に接触しているため、パラジウムどうしのシンタリングが防止される。
Claim (excerpt):
モノリス担体と、該モノリス担体に被覆形成されパラジウム、アルカリ土類金属、セリウム酸化物及びジルコニウム酸化物よりなる触媒活性成分と活性アルミナから形成された触媒担持層と、からなる排気ガス浄化用触媒において、パラジウム及びアルカリ土類金属は該触媒担持層の表面に高密度担持されていることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
IPC (3):
B01J 23/58 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94
FI (2):
B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 104 A

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