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J-GLOBAL ID：200903051546673102
基板の表面処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
間宮 武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993294765
Publication number (International publication number)：1995130699
Application date： Oct. 29, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：
【要約】【目的】 最終リンス処理が終わってから乾燥処理が終了するまでの間、基板が大気に触れないようにし、基板表面へのパーティクル付着やガス吸着を無くして歩留りの低下を防ぎ、装置全体としてのスループットを上げ、かつ、省スペース化を図る。【構成】 乾燥処理部を洗浄処理部と一体化して洗浄・乾燥処理槽10を構成する。洗浄・乾燥処理槽を、洗浄槽12を密閉チャンバ16で閉鎖的に包囲して構成し、洗浄槽内で洗浄処理され最終リンス処理されて純水中から引き上げられた基板Wを、密閉チャンバ内へ有機溶剤の蒸気を供給し密閉チャンバ内を減圧することにより乾燥処理する。
Claim (excerpt)：
洗浄前の基板を収容したカセットが搬入され、洗浄後の基板を収容したカセットの搬出が行なわれるローダ及びアンローダと、洗浄用薬液及び純水を供給するための給液口を底部に有するとともに洗浄用薬液及び純水を越流させるための越流部を上部に有し、複数種類の洗浄用薬液及び純水を択一的に置換可能に収容し、その各薬液又は純水中に基板がそれぞれ浸漬されることにより複数種の洗浄処理及び最終リンス処理が行なわれる、少なくとも1つの洗浄槽と、この洗浄槽内へ前記給液口を通して洗浄用薬液及び純水を択一的に供給する給液手段と、前記洗浄槽で洗浄処理され最終的にリンス処理された基板の表面を乾燥させる乾燥処理部と、装置内での基板の搬送を行なう基板搬送ロボットとを備えてなる基板の表面処理装置において、前記洗浄槽の少なくとも上方空間を閉鎖的に密閉チャンバによって包囲し、その密閉チャンバの内部に、前記洗浄槽の上方位置と洗浄槽内部位置との間で基板を昇降移動させる基板昇降手段を設けるとともに、前記密閉チャンバに、その内部へ有機溶剤の蒸気を供給するための蒸気供給口を形設し、さらに、前記密閉チャンバ内を排気して減圧する排気手段、及び、前記密閉チャンバ内へ前記蒸気供給口を通して有機溶剤の蒸気を供給する蒸気供給手段を設け、前記乾燥処理部を洗浄処理部と一体化して洗浄・乾燥処理部を構成したことを特徴とする基板の表面処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304 361
, H01L 21/68
