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J-GLOBAL ID：200903051565844988

セラミックスシンチレータ材料

Inventor： 中村 良平 ,  清水 英明 ,  山田 信行 ,  稲垣 秀美 ,  渋谷 修一
Applicant, Patent owner： 日立金属株式会社
Agent (1)： 大場 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993189646
Publication number (International publication number)：1995041760
Application date： Jul. 30, 1993
Publication date： Feb. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 身体頭頂部の断面を画像処理する場合にもアーチファクトを生じることがないX線CT装置用シンチレータ材料を提供する。【構成】 R2O2S(ただし、RはY,La及びGdから成る群の中から選ばれる少なくとも1種の元素を示す)系セラミックスシンチレータ材料において、ホウ素含有率が300ppm以下であることを特徴とするセラミックスシンチレータ材料。

Claim (excerpt)：

R2O2S(ただし、RはY,LaおよびGdからなる群の中から選ばれる少なくとも1種の元素を示す)系セラミックスシンチレータ材料において、ホウ素含有率が300ppm以下であることを特徴とするセラミックスシンチレータ材料。

IPC (2)：

C09K 11/84 CPD ,  C09K 11/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭62-190281