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J-GLOBAL ID：200903051596024300

ポリマーマイナスフィルター、その製造方法、及び放射線感受性物体の保護方法

Inventor： ロバート エイチ.ミラー
Applicant, Patent owner： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
Agent (1)： 青木 朗 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992284257
Publication number (International publication number)：1993215916
Application date： Oct. 22, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 λ0 を中心とした所定の設計波長に調整された少なくとも一つのポリマー干渉スタックを含んで成る、入射電磁スペクトル帯域用のポリマーマイナスフィルターを提供する。【構成】 λ0 は300nm〜2000nmの範囲にあり、該フィルターは光学的透明な支持体を含んで成り、しかもその上に周囲温度で堆積された多数の組のポリマーの薄い干渉層及び一つの最終の屈折率n2 を有する一つの最終ポリマー層を有し、各組の干渉層はλ0 の1/2波長に等しい全光学厚を有し、各組の部材はそれぞれ屈折率n1 及びn2 を有し、屈折率n2 を有する層は屈折率ns を有する支持体上に直接重ねられており、ns はn1 にほぼ等しく、そしてn2 はn1よりも小さい。

Claim (excerpt)：

λ0 付近を中心とした所定の設計波長に調整された少なくとも一つのポリマー干渉スタックを含んで成る、入射電磁スペクトル帯域用のポリマーマイナスフィルターにおいて、λ0 が300nm〜2000nmの範囲にあり、前記フィルターが、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリアリールスルホン、ポリエステル及びポリスルホンより成る群から選択された光学的透明な支持体を含んで成り、しかもその上に堆積された多数の組のポリマーの薄い干渉層(屈折率n1 を有する該層はポリスチレン、プラズマ重合ヘキサメチルジシロキサン及びポリメチルメタクリレートより成る群から選択され、そして屈折率n2 を有する該層はプラズマ重合ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン及びヘキサメチルジシロキサンより成る群から選択される)と、屈折率n2を有する一つの最終のポリマーの薄い干渉層とを有し、各組の干渉層がλ0 の1/2波長に等しい全光学厚を有し、各組の部材がそれぞれ屈折率n1 及びn2 を有し、屈折率n2 を有する層が屈折率ns を有する前記支持体上に直接重ねられており、ns がn1 にほぼ等しく、そしてn2 がn1 よりも小さい前記ポリマーマイナスフィルター。

IPC (2)：

G02B 5/28 ,  G02C 7/10