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J-GLOBAL ID：200903051630728508

被処理物の酸化方法

Inventor： 平本 立躬 ,  五十嵐 龍志 ,  松野 博光 ,  松島 竹夫 ,  磯 慎一
Applicant, Patent owner： ウシオ電機株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994291999
Publication number (International publication number)：1995196303
Application date： Nov. 02, 1994
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【目的】高濃度のオゾンを生成することにより処理スピードの速い被処理物の酸化方法を提供することにある。【構成】キセノンガスを封入した誘電体バリア放電ランプ100から放射される真空紫外光を酸素を含む流体に照射することにより、光化学反応によってオゾンと活性酸化性分解物を生成せしめ、このオゾンと活性酸化性分解物を被処理物9の表面に接触させることにより被処理物9の表面を酸化することを特徴とする。また、遠紫外光光源を併用することによりかかる放射光によっても活性酸化性分解物を生成せしめ、かつその活性度を高めることによりより一層の処理速度を上げることができる。

Claim (excerpt)：

キセノンガスを封入した誘電体バリヤ放電ランプから放射される真空紫外光を酸素を含む流体に照射させて、光化学反応によってオゾンおよび活性酸化性分解物を生成せしめ、このオゾンおよび活性酸化性分解物を被処理物に接触させて酸化させることを特徴とする被処理物の酸化方法。

IPC (5)：

C01B 13/14 ,  B01J 19/12 ,  B05D 3/06 102 ,  B08B 7/00 ,  C01B 13/10