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J-GLOBAL ID：200903051648201744
フォトレジストの現像方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993282859
Publication number (International publication number)：1995142344
Application date： Nov. 12, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：
【要約】【目的】 疏水性の高いフォトレジストでは、現像液中の泡に起因するパターン欠落が発生する。本発明ではこのパターン欠陥を防止し、良好なパターンを提供することを目的とする。【構成】 現像前のフォトレジスト1上に親水性の被膜5(水被膜、IPA被膜など、親水性有機膜)を形成して現像するフォトレジストの現像方法とする。【効果】 現像液3のフォトレジスト1表面への濡れ性が高まり、現像液3中の気泡4のフォトレジスト1表面への付着がなくなり、パターン欠陥が防止される。
Claim (excerpt)：
露光されたフォトレジスト表面に純水を供給して水の薄膜を形成する工程と、上記水の薄膜上に現像液を供給して現像液層を形成する現像工程とを併せ持つことを特徴とするフォトレジストの現像方法。
IPC (2)：
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