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J-GLOBAL ID：200903051663683720

少なくとも1つのビームスプリッタと散乱光低減手段とを有する顕微鏡

Inventor： アルブレヒト ヴァイス
Applicant, Patent owner： ライカ ミクロジュステムス ヴェツラー ゲーエムベーハー
Agent (3)： 加藤 朝道 ,  内田 潔人 ,  三宅 俊男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004175602
Publication number (International publication number)：2005004221
Application date： Jun. 14, 2004
Publication date： Jan. 06, 2005
Summary：

【課題】 とりわけ小型の構造形状を有し、同時に非常に良好な散乱光低減作用を有する散乱光低減手段を有する顕微鏡及びビームスプリッタユニットを提供すること。【解決手段】 顕微鏡ビーム路における少なくとも1つのビームスプリッタと、散乱光低減手段とを有する顕微鏡において、前記散乱光低減手段は、反射防止膜(7)が被着された(鏡面)研磨表面を有する黒色ガラスプレート(6)として構成されることを特徴とする。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

顕微鏡ビーム路における少なくとも1つのビームスプリッタと、散乱光低減手段とを有する顕微鏡において、 前記散乱光低減手段は、反射防止膜(7)が被着された研磨表面を有する黒色ガラスプレート(6)として構成されること を特徴とする顕微鏡。

IPC (1)：

G02B21/06

FI (1)：

G02B21/06

F-Term (6)：

2H052AA01 ,  2H052AA09 ,  2H052AC04 ,  2H052AC07 ,  2H052AC27 ,  2H052AD34

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• DE 199 26 037 A1
  
• JP 2000-75207A