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J-GLOBAL ID：200903051701316230

フォトマスク保護用粘着フイルム

Inventor： 水野上 美徳 ,  小松 裕明
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994066082
Publication number (International publication number)：1995281420
Application date： Apr. 04, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 クリーニングのためにアルコールで拭き取ったり、湿度が低下しても帯電防止効果、離型効果の低下がなく、大規模な薄膜形成装置を必要とせず、又、生産性がよく、粘着フイルムとしての性能のバランスがとれ、且つ透明性にすぐれたフォトマスク保護用粘着フイルムを提供する【構成】 アニリン系重合体200g、ペンタエリスリトールトリアクリレート200g、1,6-ビス(3-アクリロキシ-2-ヒドロキシプロピル)ヘキシルエーテル200g、ベンゾフェノン30g、ミヒラーケトン10gからなる帯電防止剤をポリエチレンテレフタレートフイルムの型面に塗布して厚み1μmの帯電防止層を形成し、該帯電防止層に厚み1μmの離型剤を形成し、又、上記フイルムの他方の面にアクリル系粘着剤層を形成してなるフォトマスク保護用粘着フイルムを得た。

Claim (excerpt)：

透明な基材フイルムの一面に粘着層が設けられ、他面に透明な帯電防止層を介して離型層が設けられてなるフォトマスク保護用フイルムにおいて、帯電防止層が、(メタ)アクリル系重合体中にアニリン系重合体が分散されてなるものであることを特徴とするフォトマスク保護用粘着フイルム。

IPC (7)：

G03F 1/14 ,  B32B 27/00 ,  C09D 5/00 PPM ,  C09J 7/02 JJA ,  C09J 7/02 JJN ,  C09J 7/02 JLF ,  G03F 7/11 501