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J-GLOBAL ID：200903051705843219

レジストコート方法

Inventor： 宮下 正敏
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991154588
Publication number (International publication number)：1993002777
Application date： Jun. 26, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：

【要約】従来の光メモリー製造用レジストコート方法はスピンコーターの周辺およびチャンバー内の温度、湿度を管理してコートする方法であったが、温度および湿度を高い精度で管理することは非常に困難であり、高価な設備が必要となる。しかし、本発明ではコート中のチャンバー内の温湿度、ガラス原盤の温度、レジストの温度、シンナーの蒸発量の変動をセンサーで感知してコーターの回転数を自動制御してコートするため、高価な設備を設けずに常に一定な膜厚を得ることができるレジストコート方法。

Claim (excerpt)：

ガラス原盤上へのレジストコート方法においてコート中のチャンバー内の温湿度、ガラス原盤の温度、レジストの温度、シンナーの蒸発量の変動をセンサーで感知してコーター回転数を膜厚が一定になるように自動制御してコートすることを特徴とするレジストコート方法。

IPC (4)：

G11B 7/26 511 ,  B05D 1/40 ,  B29C 33/38 ,  B29L 17:00