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J-GLOBAL ID:200903051731149991

枚葉式表面洗浄方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998055354
Publication number (International publication number):1999260778
Application date: Mar. 06, 1998
Publication date: Sep. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】 洗浄液に対して耐性を有さない超音波振動板を用いても洗浄液に超音波を印加することができる枚葉式表面洗浄方法及び装置を提供すること。【解決手段】 ウェーハWの表面に洗浄液ノズル19から洗浄液を供給すると同時に、その裏面に超音波供給ノズル21から超純水に超音波を印加した超音波印加液Tを供給し、ウェーハ表面の洗浄液に、ウェーハWを透過した超音波を印加する。これにより、洗浄効果を高めながら、洗浄液に対して耐性を有さない超音波振動板を用いても、洗浄液に超音波を印加することができ、装置コストの低減を図ることができる。
Claim (excerpt):
半導体基板を一枚ずつ回転させながら、前記半導体基板の表面に洗浄液を供給し、当該表面を洗浄するようにした枚葉式表面洗浄方法において、前記半導体基板の表面に前記洗浄液を供給すると同時に、前記半導体基板の裏面に、超音波が印加された超音波印加液を供給することにより、前記半導体基板の表面へ透過した前記超音波を前記洗浄液に印加して、前記半導体基板の表面を洗浄するようにしたことを特徴とする枚葉式表面洗浄方法。
IPC (2):
H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304
FI (2):
H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 643 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭63-305517
  • 特開昭63-305517

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