Pat
J-GLOBAL ID:200903051734055572
酸化チタンの製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000230779
Publication number (International publication number):2002047012
Application date: Jul. 31, 2000
Publication date: Feb. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】 可視光線を照射することによって高い触媒活性を示す酸化チタンを、真空容器を備えた特定の装置を用いることなく簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】 純度99%以上である、三塩化チタン、四塩化チタン、硫酸チタン、オキシ硫酸チタン、オキシ塩化チタンのようなチタン化合物と、該チタン化合物を中和するための必要量を超える量のアンモニアを混合し60°Cで反応させ、得られた生成物を焼成する。
Claim (excerpt):
純度99%以上のチタン化合物と、該チタン化合物を中和するための必要量を超える量のアンモニアを混合し反応させ、得られた生成物を焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。
IPC (6):
C01G 23/04
, B01J 21/06
, B01J 35/02
, B01J 37/03
, B01J 37/08
, C02F 1/30
FI (6):
C01G 23/04 B
, B01J 21/06 M
, B01J 35/02 J
, B01J 37/03 Z
, B01J 37/08
, C02F 1/30
F-Term (35):
4D037AA05
, 4D037AB11
, 4D037BA16
, 4D037BB09
, 4D037CA12
, 4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD03
, 4G069AA02
, 4G069AA08
, 4G069AA09
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069BB01C
, 4G069BB08C
, 4G069BB10C
, 4G069BB20C
, 4G069BC50C
, 4G069BD01C
, 4G069BD02C
, 4G069BD06C
, 4G069BD12C
, 4G069CA05
, 4G069CA10
, 4G069CA11
, 4G069CA13
, 4G069EA02Y
, 4G069EC22Y
, 4G069FB05
, 4G069FB08
, 4G069FB30
, 4G069FC03
, 4G069FC07
Patent cited by the Patent: