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J-GLOBAL ID：200903051747694795

テキスチャ装置およびテキスチャ加工方法

Inventor： 有田 陽二 ,  瀬尾 雄三 ,  栗山 俊彦 ,  芳山 龍一
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 岡田 数彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995346784
Publication number (International publication number)：1996224677
Application date： Dec. 13, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【課題】レーザビームを利用し、加工生産性の向上を図ったテキスチャ装置を提供する。【解決手段】磁気ディスク基板の製造過程で使用するテキスチャ装置であって、基板(11)を保持し回転可能な基板回転機構(10)、レーザビーム発振器(1)、当該発振器からのレーザビームをON/OFF制御する変調器(2)、当該変調器からのレーザビームを基板回転機構(10)にて回転支持された基板(11)表面に照射する集光機構(5)、当該集光機構が出力するレーザビームと前記基板回転機構(10)とを相対的に移動させる移動機構(6)を備えて成る。

Claim (excerpt)：

磁気ディスク基板の製造過程で使用するテキスチャ装置であって、基板を保持し回転可能な基板回転機構、レーザビーム発振器、当該発振器からのレーザビームをON/OFF制御する変調器、当該変調器からのレーザビームを前記基板回転機構にて回転支持された基板表面に照射する集光機構、当該集光機構が出力するレーザビームと前記基板回転機構とを相対的に移動させる移動機構を備えて成ることを特徴とするテキスチャ装置。

IPC (2)：

B23K 26/00 ,  G11B 5/84

FI (3)：

B23K 26/00 H ,  B23K 26/00 N ,  G11B 5/84 A