レーザマーキング方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：本多小平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994075649
Publication number (International publication number)：1995284965
Application date： Apr. 14, 1994
Publication date： Oct. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】文字線幅を大きく、深彫りの刻印を必要とする圧延ロール等刻印を行う方法において、低コストでドロス堆積が少なく均一な文字線形状が得られる刻印方法を提供することを目的とする。【構成】パルスレーザを光ファイバーにて伝送し、伝送された該パルスレーザを集光して被加工表面を照射するごとくなすと共に、被加工表面でのレーザビーム径を文字線幅と同一とし、レーザパルスを重ね照射しながら文字や図形パターンを描くように走査させるレーザマーキング方法。及びアシストガスをレーザビームと同軸に設けて、加工表面へ照射するごとくなし、アシストガス照射方向をレーザビームの走査方向と同じになるように制御するレーザマーキング方法。

Claim (excerpt)：

レーザビームを照射してマーキングする方法において、パルスレーザを光ファイバーにて伝送し、伝送された該パルスレーザを集光して被加工表面を照射するごとくなすと共に、被加工表面でのレーザビーム径を文字線幅と同一とし、レーザパルスを重ね照射しながら文字や図形パターンを描くように走査させることを特徴とするレーザマーキング方法。

IPC (2)：

B23K 26/00 , B23K 26/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開昭64-022496
特開昭60-106686
特公昭62-013117

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