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J-GLOBAL ID：200903051777435425
反射型マスクの作製方法と製造装置およびこれを用いた反射型マスク、該反射型マスクを用いた露光装置と半導体デバイス
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994031711
Publication number (International publication number)：1995240363
Application date： Mar. 02, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：
【要約】【目的】 外形的な欠陥を有する基板であっても、ウエハ製造に問題が生じない反射型マスクを製造する方法および装置を実現すること。【構成】 反射部と非反射部からなるパターンを有する反射型マスクであって、マスク基板の欠陥部に非反射部が位置するようにパターン形成されていることを特徴とする
Claim (excerpt)：
反射部と非反射部からなるパターンを有する反射型マスクであって、マスク基板の欠陥部に非反射部が位置するようにパターン形成されていることを特徴とする反射型マスク。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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