液晶パネル用基板およびその製造方法並びに投射型表示装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996204006
Publication number (International publication number)：1998048667
Application date： Aug. 01, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】 TFTを用いたアクティブマトリックスLCDにおいては、配向不良を防止しまた反射型では反射効率を高める上で画素電極ができるだけ広い範囲にわたって平坦であることが望まれる。ところが、従来のアクティブマトリックスLCDは、TFTが形成される部分だけ盛り上がった断面構造を有しているため、画素電極やその上に形成される配向膜の表面の一部が傾斜し、斜面に相当する部分で配向不良が生じたり、透過率や反射率が低下するという問題点があった。【解決手段】 TFTおよびITOからなる第1の画素電極(11)を形成した後、その上にスピンコート等により平坦な絶縁膜(13)を形成して上記第1画素電極の一部にコンタクトホール(10)を開けてから上記絶縁膜(13)の表面に上記第1画素電極と同一パターンの第2の画素電極(12)を形成するようにした。

Claim (excerpt)：

半導体基板上に画素電極がマトリックス状に形成されるとともに各画素電極に対応して各々トランジスタが形成され、前記トランジスタを介して前記画素電極に電圧が印加されるように構成された液晶パネル用基板の製造方法において、上記トランジスタおよび該トランジスタに接続された第1の画素電極を形成した後、その上に絶縁膜を形成して上記第1画素電極の一部に対応して上記絶縁膜にコンタクトホールを開けてから、上記絶縁膜の表面に上記第1画素電極に接続された第2画素電極を形成するようにしたことを特徴とする液晶パネル用基板の製造方法。

IPC (2)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1343

FI (2)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1343

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-335617
特開平4-283729
反射型アクティブ・マトリクス・ディスプレイ・パネル及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-336200 Applicant：日本ビクター株式会社

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