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J-GLOBAL ID：200903051813502231
高周波用磁性材料の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
和田 昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991185339
Publication number (International publication number)：1993013213
Application date： Jun. 28, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】 アンテナ、LC共振回路、高周波トランス等におけるインダクタンス素子の磁芯用として用いられる高周波用磁性材料の製造方法において、限界周波数が200MHz 以上と高く、しかも透磁率や誘電率の温度特性の良好な、高周波で安定して使用できる有用なフェライト材料を製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化鉄からなり、一般式(NiO)<SB>x</SB>(CoO)<SB>y</SB>(Fe<SB>2</SB>O<SB>3</SB>)<SB>z</SB>(但し、0.04<y/(x+y) <0.30,0.4 <z <0.6 ,x+y+z=1.0)で表わされる成分からなる成形物1を、この成形物と同組成の粉体もしくは多孔質粒子2内に埋めて焼成することにより、限界周波数が高く、200MHz 以上の高周波においても透磁率や誘電率の温度特性が良好な高周波用磁性材料が得られる。
Claim (excerpt)：
酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化鉄からなり、一般式(NiO)<SB>x</SB>(CoO)<SB>y</SB>(Fe<SB>2</SB>O<SB>3</SB>)<SB>z</SB>(但し、0.04<y/(x+y) <0.30,0.4 <z <0.6 ,x+y+z=1.0)で表わされる成分からなる成形物を、この成形物と同組成の粉体もしくは多孔質粒子内に埋めて焼成することを特徴とする高周波用磁性材料の製造方法。
IPC (3)：
H01F 1/34
, C01G 49/00
, H01F 17/04
