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J-GLOBAL ID：200903051824627869

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦

, 
椿 英明

About 椿 英明

, 
田口 紀彦

About 田口 紀彦


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006260412
Publication number (International publication number)：2008083158
Application date： Sep. 26, 2006
Publication date： Apr. 10, 2008
Summary：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、100nm以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により、特定の酸を発生する化合物及び(B)特定の酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により、下記一般式(II)で表される酸を発生する化合物、及び、 (B)下記一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 2/50 ,  C08F 20/16 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F2/50 ,  C08F20/16 ,  H01L21/30 502R
F-Term (32)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J011AA05 ,  4J011AC04 ,  4J011QA03 ,  4J011SA83 ,  4J011UA03 ,  4J011UA04 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC54P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100FA03 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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