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J-GLOBAL ID：200903051839892330
高高温伸び電解銅箔の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994097025
Publication number (International publication number)：1995278866
Application date： Apr. 12, 1994
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：
【要約】【目的】 少なくとも3%の高温での伸びを有する高高温伸び電解銅箔を製造する技術を確立すること。【構成】 硫酸酸性銅電解液中のニカワ濃度をこれまで慣行的に使用されてきた量より少なく、0.5ppm以下、好ましくは0.01〜0.2ppm未満にする。併せて、電解液中の塩化物イオン濃度:20〜100ppm、電解液温度を20〜70°C、好ましくは40〜60°C及び硫酸濃度:20〜200g/l、好ましくは40〜120g/lの条件の一つもしくはそれらの組合せを併用することが好ましい。
Claim (excerpt)：
硫酸酸性硫酸銅溶液を電解液として電解銅箔を製造する方法において、前記電解液中のニカワ濃度を0.5ppm以下とすることを特徴とする高高温伸び電解銅箔の製造方法。
IPC (2)：
C25D 1/04 311
, H05K 1/09
