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J-GLOBAL ID：200903051843098591

静電チャックを備えたチャンバのためのプラズマガード

Inventor： ジョン モーン ,  ジョシュア チウ-ウィン ツィ ,  ケネス エス. コリンズ
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995270362
Publication number (International publication number)：1996227934
Application date： Oct. 18, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【課題】 静電チャック上のプラズマ反応領域の外側へ荷電粒子が漂流又は拡散することを防止できるプラズマチャンバを提供する。【解決手段】 プラズマ反応チャンバ、プラズマソース及び、静電チャックを収容する下側チャンバを備えた真空プロセスチャンバに、平坦な同心リングの構成を有するプラズマガード材が用いられて、チャックの基板支持能力に不利に影響されないように、荷電粒子の下側チャンバへの漂流又は拡散による静電チャックへの接触を防止する。

Claim (excerpt)：

プラズマ反応チャンバ、プラズマソースを備え、ウエハクランプを備えない真空プロセスチャンバにおいて使用され、荷電粒子がプラズマ反応チャンバの外部へ到達することを防止するプラズマガード材であって、基板ホルダに適所に保持される半導体基板と並列に載置され且つオーバーラップする同心リング材を少なくとも1つ備えるプラズマガード材。

IPC (8)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  C23C 14/50 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (8)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  C23C 14/50 Z ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B