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J-GLOBAL ID:200903051866462363
高分子及びその製造方法と使用
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
千葉 剛宏
, 宮寺 利幸
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001550309
Publication number (International publication number):2004500455
Application date: Jan. 04, 2001
Publication date: Jan. 08, 2004
Summary:
トリアリールアミン単位を有し、かつArh-NAr2からなる構造単位を1つ以上有する高分子である。ここで、Arhは、置換された、または置換されていない含窒素ヘテロアリール基である。一方、各Arは、置換された、または置換されていないアリール基またはヘテロアリール基であり、互いに同一のものまたは相違するものである。この高分子は、高分子骨格にジビニレンアリーレン単位を1以上具備する共重合体以外のものである。
Claim (excerpt):
トリアリールアミン単位を有する高分子であって、Arh-NAr2からなる構造単位を1つ以上有することを特徴とする高分子:
Arhは、置換された、または置換されていない含窒素ヘテロアリール基、各Arは、置換された、または置換されていないアリール基またはヘテロアリール基であり、互いに同一のものまたは相違するものである。この高分子は、高分子骨格にジビニレンアリーレン単位を1以上具備する共重合体以外のものである。
IPC (4):
C08G61/12
, C09K11/06
, H05B33/14
, H05B33/22
FI (5):
C08G61/12
, C09K11/06 680
, H05B33/14 B
, H05B33/22 B
, H05B33/22 D
F-Term (9):
3K007AB03
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 4J032BA21
, 4J032BB01
, 4J032BB03
, 4J032BC02
, 4J032BC34
, 4J032CG00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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特開昭54-017996
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特開昭54-016490
Cited by examiner (4)