Pat

J-GLOBAL ID：200903051889239068

パタン形成材料及びパタン形成方法

Inventor： 上野 巧 ,  シユレーゲル・レオ ,  林 伸明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991301622
Publication number (International publication number)：1993142774
Application date： Nov. 18, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：

【要約】【構成】アルカリ可溶性フェノール樹脂、一般式(1)【化1】(ただし、Rはt- ブトキシカルボニル基を表し、Xは水素,ハロゲン,アルコキシ基からなる群から選ばれた少なくとも一種の置換基を表し、Yはアルキル基を表す)【効果】短波長光露光装置,電子線照射装置を用いた露光法により高解像度のパタンを形成することができる。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性フェノール樹脂,溶解抑制剤,酸前駆体からなる化学増幅系レジスト組成物であって、酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解抑制効果を示す化合物が一般式(1)【化1】(ただし、Rはt- ブトキシカルボニル基を表し、Xは水素,ハロゲン,アルコキシ基からなる群から選ばれた少なくとも一種の置換基を表し、Yはアルキル基を表す)で表される化合物を含むことを特徴とするパタン形成材料。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 L