Pat
J-GLOBAL ID：200903051980947989
表面検査方法及び装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999006242
Publication number (International publication number)：2000206050
Application date： Jan. 13, 1999
Publication date： Jul. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 被検物体上に形成されている1種類、又は複数種類のパターンの欠陥等を確実に検出する。【解決手段】 異なるピッチのパターン23A,23Bが形成されたウエハ5がチルトステージ6上に保持されている。光源1〜凹面鏡4よりなる照明系によってウエハ5の表面にほぼ平行な照明光を入射角ψで照射し、ウエハ5の表面から反射角φで発生する回折光を凹面鏡12〜撮像素子15よりなる受光系で受光して、ウエハ5の像の画像データを得る。パターン23A,23Bのピッチに応じてチルトステージ6のチルト角Tを複数に切り換えてそれぞれ画像データを得ると共に、各チルト角での欠陥等の情報の論理和を求める。
Claim (excerpt)：
被検物体の表面に形成されたパターンの検査を行う表面検査方法であって、前記被検物体の表面に照明光を照射し、互いに異なる複数の回折条件でそれぞれ前記被検物体の表面からの回折光を検出し、該検出される複数の検出情報の論理和に基づいて前記被検物体の表面のパターンの検査を行うことを特徴とする表面検査方法。
F-Term (20)：
2G051AA51
, 2G051AA73
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051AB07
, 2G051BA04
, 2G051BA08
, 2G051BB01
, 2G051BB09
, 2G051BB11
, 2G051BB17
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051CC07
, 2G051CC11
, 2G051DA08
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051FA01
Cited by examiner (6)
-
回折光を使用した基板検査方法および装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平9-054687
Applicant：株式会社ニコン
-
半導体ウエハの自動検査装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平9-133152
Applicant：株式会社ニコン
-
特開昭63-006444
Show all
Return to Previous Page
