エンボス加工されたパターンを有するセルロース繊維ウエブ

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大川晃 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001500058
Publication number (International publication number)：2003500571
Application date： May. 28, 1999
Publication date： Jan. 07, 2003
Summary：

【要約】エンボス加工パターンを有するセルロース系繊維ウエブが開示されている。このエンボス加工パターンは反復パターンからなる。1個の反復パターンは複数の独立で特有のランドと背景マトリクスとからなり、この背景マトリクスは複数の独立の構成要素を有する。反復パターンはセルロース系繊維のウエブをエンボス加工することによって提供される。背景マトリクスは独立の構成要素を40乃至90個毎6.45平方センチメートルの密度で有する。独立で特有のランドは、背景マトリクスの独立の構成要素で実質的に取り囲まれることにより決定される。1個の独立で特有のランドは、背景マトリクスから4乃至90個の独立の構成要素を取り除いた大きさに対応する。1個の反復パターンの中の独立で特有のランドの総面積は反復パターンの面積の3%乃至35%を占める。

Claim (excerpt)：

エンボス加工パターンが反復パターンからなり、1個の反復パターンが複数の独立で特有のランドと、複数の独立の構成要素を有する背景マトリクスとからなり、ここで前記反復パターンがセルロース系繊維ウエブのエンボス加工によって提供され、前記背景マトリクスが独立の構成要素を40個毎6.45平方センチメートルから90個毎6.45平方センチメートルまでの密度で有し、かつ、前記独立で特有のランドが前記背景マトリクスの前記独立の構成要素で取り囲まれることにより画成され、1個の独立で特有のランドが4個から90個までの前記独立の構成要素を前記背景マトリクスから取り除いた大きさに対応し、かつ、1個の反復パターンの中の前記独立で特有のランドの総面積が1個の反復パターンの面積の3%から35%を占める、前記エンボス加工パターンを有するセルロース系繊維ウエブ。

IPC (2)：

D21H 27/00 , B31F 1/07

FI (2)：

D21H 27/00 F , B31F 1/07

F-Term (7)：

3E078BB51 , 3E078BC06 , 3E078DD09 , 4L055AJ07 , 4L055BE15 , 4L055FA16 , 4L055GA29

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭59-116500
特開昭59-116500
柔軟性のある嵩高性ティッシュの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-029481 Applicant：キンバリークラークコーポレイション

Show all

Return to Previous Page